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根據本人在工作中
的經驗,對於各制程中刷輥中運用與配置作了一些總結,願與關心此問題的朋友
們一起討論研磨的問題。
1)
鑽
孔後去毛刺(PTH)
A.
目的:通過研磨法去除孔邊披鋒,孔內鑽汙及板件表面雜物、氧化物,為
化學沉銅工序提供潔淨表面。
B.
要求:板面研磨後粗糙度要求合格即粗糙度控制在(2.0-—3.5um),板面無
嚴重劃痕,求购钻针研磨机,孔邊銅皮無起翹及孔邊無銅,披鋒去除良好,十倍鏡下無明顯披鋒,
板面清潔無膠漬、氧化物。
C.
常見問題:如果研磨不良或過度會造成板面明顯劃痕,板面氧化、雜物去
除不淨,孔邊銅皮起翹及無銅、造成沉銅鍍層脫落或披鋒更加嚴重。
D.使用參數:2×240#+2×320#(sic),磨痕:10±2mm,钻针研磨机,水破:15
秒,粗糙度:1.
5—3.5um
2)
幹膜前處理(Dry
Film)
Film)
系指通孔区或其他板材区,经截取切样灌满封胶后,封垂直于板面方向所做的纵断面切片(Vertical Section),或对通孔做横断面之水平切片(Horizontal section),钻针研磨机配件,都是一般常见的微切片。
图1.左为200X之通孔直立纵断面切片,右为100X通孔横断面水平切片。若以孔与 环之对准度而言,纵断面上只能看到一点,但横断面却只可看到全貌的破环。
2、 微 切 孔
是小心用钻石锯片将一排待件通孔自正*直立剖成两半,或用砂纸将一排通孔垂直纵向磨去一般,将此等不封胶直接切到的半壁的通孔,置于20X~40X的立体显微镜下(或称实体显微镜),在全视野下观察剩余半壁的整体情况。此时若另将通孔的背后板材也磨到很薄时,则其半透明底材的半孔,还可进行背光法(Back Light)检查其较初孔铜层的敷盖情形。